Sefpro公司开发出新型高电阻率的氧化锆熔铸砖

Sefpro新近开发出一种新型高电阻率的氧化锆熔铸砖产品--XilEC5。该产品含有具有高电阻率的玻璃相和氧化锆。对于XilEC5产品，为了优化抗玻璃侵蚀性，固定标准高氧化锆熔铸砖(HZFC)中的SiO2含量(约5%)，抑制碱性物质，同时通过优化氧化铝与氧化硼的比，微调玻璃相的组成，提高玻璃相的电阻率。另外，利用M(Ta，Nb)2O5氧化物浸渍氧化锆，填充氧化锆晶格空位以及产生填隙氧原子，可增大氧化锆颗粒的电阻率。事实证明，浸渍后的氧化锆电阻率比未浸渍产品的大3～4倍。

　　

因此，新研制的高电阻率HZFC产品--XiLEC5具有电阻率高，抗碱侵蚀性好，由于与玻璃接触时，界面稳定性好，对玻璃不良影响较小。该产品优先用在无碱玻璃熔窑，也可用在碱性玻璃冶炼，尤其是用作电极砖。由于其电阻率较高，XiLEC5产品可延长玻璃窑的寿命，提高玻璃质量。

 

【中国镁质材料网 采编：ZY】